2019年9月17日上午，应太阳成集团tyc33455cc、低品位能源利用技术及系统教育部重点实验室的邀请，南非约翰内斯堡大学Tien-Chien Jen教授做客“重庆大学工程科学前沿讲坛”，在太阳成集团tyc33455cc303教室开展了学术交流活动。Jen教授作了题为“The Way Forward in Numerical Investigation of the Atomic Layer Deposition Process（原子层沉积过程数值模拟研究进展）”的学术报告。太阳成集团tyc33455cc党委书记潘良明教授主持本次讲座。

    Jen教授主要从事原子层沉积等多种领域的研究工作。微半导体产业自诞生以来，就面临着的薄膜沉积的问题，这些薄膜伴随着一些特殊性质，以满足制造部件所需的耐久性、效率和性能要求。到目前为止，工业界已经证明原子层沉积能够获得性能卓越的高质量纳米薄膜。这些特性对于先进技术和实现无销孔、均匀、保形和精确厚度的产品的优化高效制造生产至关重要。

    Jen教授的学术报告内容丰富，讲解形象生动。Jen教授介绍了南非约翰内斯堡大学的主要信息和工作生活环境，使在座师生扩展了眼界。并讲述了团队研究小组在原子层沉积领域的数值模拟研究工作方面的进展。通过利用连续介质、格子玻尔兹曼理论、密度函数理论、分子动力学等方法对反应堆内部的众多现象和薄膜特性进行了数值模拟，内容涉及几何设计的行为和优化、原子层沉积组分优化、速度和曝光时间现象、化学动力学假设以及原子层沉积数值研究的前进方向等。

    Jen教授的报告具有极高的逻辑性和深度，在座的老师和同学也产生极大的兴趣，并与Jen教授积极互动，现场气氛极其活跃。讲座结束时，潘良明书记为Jen教授颁发工程科学前沿讲坛纪念奖牌，并合影留念。